產品介紹：
XQ20-GⅠ型激光平面干涉儀主要用于精密光學平面的平面度測量，光學平板的微小楔角測量,光學材料均勻性測量,配置相應的工作臺可實施光學薄板波前誤差的測量。是光學元件加工廠、光學儀器生產廠必備的光學檢測儀器。
此型號儀器采用大工作室移動檢測方案，解決大口徑高精度平面加工在線檢測難題；采用隱形布簾式圍板,既可保證高精度測量的需要又可實現大批量生產車間大口徑工作盤流水快速的篩選測量;運用高分辨率的攝像系統及顯示系統,減輕了操作人員的勞動強度,檢測直觀方便;運用經濟合理的簡化結構,既保證儀器應有的測量精度又降低了制造成本,為中低精度大批量生產廠家實現非接觸快速測量創造了條件。
技術參數：
1．第一標準平面（A面），工作直徑D1=Φ200mm，平面的面形偏差小于0.045μm(λ/15)
2．第二標準平面（B面），工作直徑D2=Φ200mm，平面的面形偏差小于0.045μm(λ/15)
3．準直系統…………………………工作直徑Φ200mm ，焦距 f = 580mm，波象差<λ/15
4．工作室尺寸…………………………1100×1100×350mm 可測量范圍800mm×800mm(移動)
5．光源規格……………………………………激光ZN250（He－Ne）（632.8nm）。
6．儀器的外形尺寸……………………………… 1400×1250×1560mm(高)
7．儀器質量…………………………………………500kg
